技术编号：4869472
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及降低在由半导体制造工厂排出的pH4.0以下的排水中所含有的氟离子含量的方法。更详细地说，本发明涉及将该排水中所含的有害氟离子(以下有时仅称为“氟”)的含量降低到排水标准以下、甚至是土壤环境标准以下的方法。背景技术 在半导体制造工厂中使用多量的氢氟酸作为硅片的蚀刻剂。该氢氟酸由于用水等进行洗涤，因此排水的pH低至4.0以下、且含有高浓度的氟。而且，根据环境厅发布的排水标准，规定检液中的氟浓度为8mg/L以下，根据土壤环境标准，规定检液中的氟浓度为0...
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