技术编号:4978046
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术1、发明领域本发明涉及半导体器件的制造。更具体地,本发明涉及利用RF功率处理半导体晶片的等离子体处理系统。2、现有技术的描述半导体处理系统用来处理半导体晶片以用于制造集成电路。具体地,在腐蚀、氧化、化学气相淀积(CVD)等等中通常采用基于等离子体的半导体处理。典型是利用等离子体处理系统来进行基于等离子体的半导体处理,该等离子体处理系统包括在等离子体处理室中用来提供受控设置的平行极板反应器。在这种等离子体处理系统中,平行极板反应器典型地采用两种不同的...
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