技术编号:5015602
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。相关申请本申请要求2003年7月21日递交的美国临时申请第60/488,850号和2003年10月22日递交的美国临时申请第60/513,351号的权益。上述申请的全部教导引入本文作参考。 背景技术 氢化物气体,尤其是氨气在包括半导体和LEDs制造的许多工艺中使用。也使用其它的氢化物气体,例如胂(AsH3)和膦(PH3)来制造例如砷化镓(GaAs)和磷化镓(GaP)的半导体薄膜,这些薄膜用于高速数据传输设备、蜂窝电话、视频电话和商业卫星。半导体制造中使用的...
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