技术编号:5019766
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般地涉及清除和收集作为工业副产物所产生的不良废物。更具体地,本发明涉及将半导体制造工艺所用化学蒸气里的氟气转化为其可处理形式。特别地,本发明涉及用于清除和收集工业过程中产生的氟的方法和装置。此外,本发明包括在需要清除和收集氟的工业过程中使用本发明方法和装置的系统。背景技术半导体制造工艺通常在加工电介质和金属的过程中用到化学气相沉积法。制造工艺的某些部分还用化学蒸气蚀刻半导体组件,所述化学蒸气通常由全氟化合物(PFC)和氟气组成。制造工艺的各个步骤通...
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