技术编号:5020312
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及一种,更具体地说,涉及一种,其具有优势的原因在于使用少量的钯,从而可以制备对氢气的选择性显著、且耐久性强的用于氢分离的膜,并且,无论何种载体,分离膜的性能均可以得以改进。背景技术 通常,用于制备超高纯氢气的分离膜渗透性低。因此,为克服这一问题,目前人们正在对通过将无孔钯膜施加到多孔载体上以提高膜的选择性渗透进行透彻和广泛的研究。无孔钯膜的氢气选择性很高,但是渗透性低。因此,尽管意图通过用薄钯膜涂覆多孔载体表面以提高分离膜的选择性氢渗透性,但是...
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