技术编号:5052215
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型有关一种进气装置,旨在提供一种尤适用于废气处理反应炉的进气装置。背景技术按,在半导体制程中所排出的废气(gas)中,因为含有未反应的SiH2Cl2、SiHCl3、 Si2H6, TEOS(四乙氧基硅炕,tetraethoxysilane)等对人体或环境有害的Si化合物,以及 SiH4、PH3、B2H6等具有可燃性、爆炸性的氢化物。故必需利用大量氮气予以稀释,使该排气浓 度在爆炸下限以下,以及使用半导体排气处理装置,至少将有毒气体的浓度降低至容许值...
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