技术编号：5106264
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于刻蚀多晶硅片的不含强酸和强碱性物质的水性分散体系、使用该水性分散体系刻蚀多晶硅片的方法和使用该刻蚀方法制备的多晶硅片。背景技术在太阳能电池行业，提高太阳能电池转换率的方法主要有两个方向，一是改善太阳能电池本征特性，二是提高太阳能电池的吸光性。减反膜和绒面是提高太阳能电池吸光性的主要手段。所谓的绒面是指存在于物体表面上的一系列有规则或无规则的高低不同和大小不同的表面形状。由于绒面的存在，物体表面的反射率就会大大降低，从而提高其吸光率。现有的...
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