技术编号：5272993
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种低聚吩嗪鎓化合物的混合物以及制备此混合物的方法。本发明进一步涉及一种用于电解沉积含有该低聚吩嗪鎓化合物的铜沉积物的酸浴以及使用该酸浴来电解沉积铜沉积物的方法。为制造出装饰性表面，本发明的混合物可以作为一种成分而被用于铜镀浴中来更特别地形成高度明亮与均一的铜沉积物。该混合物可进而作为一种成分而被用于铜镀浴中来选择性地与完全地与铜填充至印刷电路板的隐蔽微孔(blind microvias)。在制造集成电路时，该混合物也可进一步地作为一种成分而被用...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。