技术编号：5496978
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及单晶炉，涉及一种用于清理单晶炉真空管道的装置。背景技术现有单晶硅生产过程中，产生的挥发物主要是SiO蒸汽，遇冷大部分粘贴在热场及上下炉壁、各段真空管道上，并最终有少部分进入主真空泵内沉积在真空泵油中。单晶炉经过多次使用后，都需要清扫附着在各段真空排气管道内的氧化物粉尘和更换真空泵油，以保证正常拉晶所需的工艺条件。目前主流单晶炉生产厂家的炉台由于结构需要，炉体主室真空管道接口与主真空泵需要经过4-6段管道转接才能相连通，所以清理这些管道中的挥发...
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