技术编号：5901380
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻机，尤其是一种基于ニ阶像差模型的光刻机投影物镜波像差检测方法。背景技术光刻机是制造极大規模集成电路最重要的设备。光刻机的投影物镜是光刻机最重要的系统之一，它的性能直接决定光刻机的成像 质量。当投影物镜有波像差存在吋，将造成光刻成像质量的恶化和エ艺窗ロ的减小，特别是随着光刻的特征尺寸不断减小，投影物镜波像差对光刻成像质量的影响越来越突出。国际上，通常使用一组正交的37阶泽尼克多项式表征波像差，这37阶泽尼克多项式可以按奇偶分为两类。其中，以Z7...
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