技术编号：5919720
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及扫描平台，尤其涉及气浮扫描工作台。 背景技术在半导体集成电路制造行业，特别设计LED生产和太阳能电池芯片的生产过程中，对基片的平整度，翘曲度这些指标有很高的要求，因此经常需要检测基片的平整度与厚度，在这过程中，需要提供一种用于放置基片的扫描平台。由于基片检测环境的要求，对扫描工作平台也就提出了严格的要求，不仅要保证基片处于无污染工作状态，还需要基片能够在二维上任意调节位置，对于检测位移的准确度要求较高，而这是人工所无法代替的。实用新型内容本实...
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