技术编号：5926919
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于软脆光电晶体透射电镜样品制备，特别涉及软脆光电半导 体晶体的透射电镜样品制备方法。背景技术随着红外、光电、航空、航天等高新技术的快速发展，新兴的II-VI族软脆光 电器件对碲镉汞表面质量及完整性的要求越来越高，然而目前的加工方法多采用游离磨 料的研磨与机械抛光来完成，这种传统的应用于硬脆材料的加工方法非常容易导致碲镉 汞晶体断裂、破碎、产生划痕、嵌入、变形等缺陷。因此，针对这种新兴的软脆光电晶 体，必须采用纳米加工技术，以避免传统加工技术带来的缺...
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