技术编号:594934
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及浸没式光刻(immersion 1 ithography)用抗蚀剂保护膜材料、 浸没式光刻用抗蚀剂保护膜聚合物、浸没式光刻用抗蚀剂保护膜组合物、浸没 式光刻用抗蚀剂保护膜形成组合物以及抗蚀图案的形成方法。半导体等的集成电路的制造中,采用将对掩模照射曝光光源的光而得 的掩模的图案像投影在基板上的感光性抗蚀剂,将该图案像转印于感光性 抗蚀剂的光刻法。通常,所述图案像介以在感光性抗蚀剂上相对移动的投 影透镜被投影于感光性抗蚀剂的所需的位置。曝光光源的光...
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