技术编号：5996809
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造，特别涉及一种测距器及化学气相沉积设备。背景技术化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition, CVD)是利用化学反应的方式，反应气体通过气管，从带有多孔的喷淋头(Shower Head)上喷射出来,反应气体在喷淋头和加热器(Heater)之间的空间中被电解离成气浆。气浆中的离子会在置于加热器上的晶圆表面聚合形成固态生成物，从而在晶圆表面的形成一种薄膜沉积技术。反应气体经过数十年的发展，化学气相沉积已经成为目前半导体...
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