技术编号:6227580
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种锗晶体码盘分划工艺,其工艺流程为涂胶→前烘→曝光→中烘→显影→后烘→清洗→镀铬→去胶→检验。本发明的有益效果是解决了锗晶体码盘图案的制作技术难题,在锗晶体光坯上制作出明暗对比度大、图案边缘不均匀性小的码盘图案,激光通过码盘上的光栅通道,形成信息场的调制频率,满足激光驾束制导仪的使用。该方法对晶体分划元件的制作具有很好的推广应用价值。可广泛应用于光学仪器分划元件的加工,可用于航天、航空、激光驾束制导系统、红外产品光学系统等。在锗晶体光坯上制作...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。