技术编号:6274786
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及显示器制造领域,尤其涉及一种温度控制装置及干刻设备。背景技术近年来,随着基板世代(基板的尺寸)的增大和制程(基板上金属导线的线宽)的减小,在制造 TFT-1XD (Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜场效应晶体管液晶显示器)和半导体等的过程中,对干刻均匀性的要求越来越高。但是,在采用现有干刻设备进行干刻的过程中,由于干刻设备腔室中气体、电场、等离子体等分布的不均匀性,因此导致干刻不均匀,...
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