技术编号:6286749
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种温度控制方法及其温度控制系统,尤其涉及一种用于光刻 机的温度控制方法及其温度控制系统。背景技术光刻机对其内部关键零部件的温度波动具有严格的限制,尤其是光刻机内 投影物镜的温度波动,将直接引起成像质量的畸变。光刻机投影物镜正常工作时要求其温度波动范围在± 0. 02°C,当采用循环冷却液对光刻机内部的温度进 行控制时, 一般要求循环冷却液体温度的控制精度达到士O. 04°C。这就要求向 光刻机内部提供温度受控制高精度的循环冷却液以达到稳定光刻机...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。