技术编号:6339770
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造,更具体地说,涉及一种光学邻近效应矫正 (Optical Proximity Correction, 0PC)数据的查询方法及系统。背景技术随着超大规模集成电路(ULSI,Ultra Large Scale htegration)的飞速发展,集成电路制造工艺变得越来越复杂和精细。在0. 13μπι以下技术节点的关键层次中,如有源区层(Τ0)、栅氧层(GT)以及金属连线层(An)等关键层次关键参数最小特征尺寸即关键尺寸(Critical ...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。