专利名称：光学邻近效应矫正数据的查询方法及系统的制作方法
技术领域：
本发明涉及半导体制造技术领域，更具体地说，涉及一种光学邻近效应矫正 (Optical Proximity Correction, 0PC)数据的查询方法及系统。
背景技术：
随着超大规模集成电路(ULSI，Ultra Large Scale htegration)的飞速发展，集成电路制造工艺变得越来越复杂和精细。在0. 13μπι以下技术节点的关键层次中，如有源区层(Τ0)、栅氧层(GT)以及金属连线层(An)等关键层次关键参数最小特征尺寸即关键尺寸(Critical Dimension，⑶)越来越小，某些关键层次的⑶已经接近甚至小于光刻工艺中所使用的光波的波长248nm，因此在光刻中的曝光过程中，由于光的干涉和衍射现象，实际产品晶片上得到的光刻图形与掩膜版图形之间存在一定的变形和偏差，光刻中的这种误差直接影响电路性能和生产成品率。为了消除上述误差，普遍的做法是使用OPC方法对设计图进行一定的修正。在每一次多项目晶圆(Multi Project wafer, MPff) tape out，即每一次流片，都需要确认进行 OPC前的数据(即原数据)与进行OPC后的数据(即OPC数据)之间的一致性，以保证后续光刻图形与掩膜版图形之间的一致性。具体的，需要确认的内容包括文件名(File name), 校验和(Checksum)及文件大小(File size)。现有技术进行原数据和OPC数据的比对的方式是逐个文件比对统计，这种比对方式可以基于数据库进行。下面结合图1，通过一个例子具体说明假如用户想要比对文件名为 "018INLI0TC_D1LPRD2_10101401. oasis"的文件 1，则可以向数据库输入"cksum 018INLI0TC_D1LPRD2_10101401. oasis"(即 cksum+f ilename)指令，数据库接收到所述指令后，根据其中的文件名，搜索文件名称为018INLI0TC_D1LPRD2_10101401. oasis的文件2 并显示，以供用户比对原文件中的文件1和OPC数据中的文件2的filename21、checksum22 和 filesize23。在实施本发明创造过程中，发明人发现，上述比对统计方法至少存在以下问题对于每个文件的比对，都需要录入一次命令，当文件数量较多时，需要录入较多次数的命令，一方面工作量较大，另一方面由于各文件的文件名均不同所以容易出错，这两方面都会影响工作效率。
发明内容
本发明实施例提供了一种OPC数据的查询方法及系统，以减轻操作人员的工作量，降低出错概率，进而提高工作效率。为实现上述目的，本发明实施例提供了如下技术方案一种光学邻近效应矫正OPC数据的查询方法，包括接收用户输入的查询指令，所述查询指令携带本次查询字段；
参考预先设定的查询字段与存储地址之间的对应关系，查询与本次查询字段对应的存储地址，将所述存储地址确定为目标存储地址；获取所述目标存储地址上所有OPC数据，并输出至显示界面。优选的，在接收用户输入的查询指令之前，预先将原文件的数据输出至所述显示界面顶部。优选的，所述存储地址为文件名称，所述文件为存储有源区层对应的OPC数据的有源区层文件或存储栅氧层对应的OPC数据的栅氧层文件或存储金属连线层对应的OPC数据的金属连线层文件。优选的，所述存储地址为文件名称，所述文件用于存储有源区层、栅氧层和金属连线层对应的OPC数据，所述有源区层、栅氧层和金属连线层对应的OPC数据按照预设方式排列。优选的，按照以下方式将目标存储地址中所有OPC数据输出至显示界面按照与原文件各条数据在所述显示界面上的先后顺序，将所述目标存储地址中所有OPC数据依次输出至所述显示界面。本发明实施例还公开了一种光学邻近效应矫正OPC数据的查询系统，包括查询指令接收单元，用于接收用户输入的查询指令，该指令携带本次查询字段；目标确定单元，用于参考预先设定的查询字段与存储地址之间的对应关系，查询与本次查询字段对应的存储地址，确定为目标存储地址；数据获取单元，用于获取所述目标存储地址上所有OPC数据；输出单元，用于将数据获取单元获取的OPC数据输出至显示界面。优选的，所述显示界面用于预先显示原文件的数据。优选的，所述存储地址为文件名称，所述文件为存储有源区层对应的OPC数据的有源区层文件或存储栅氧层对应的OPC数据的栅氧层文件或存储金属连线层对应的OPC数据的金属连线层文件。优选的，还包括数据调度单元，用于从不同地址的分别存储对应层的OPC数据的有源区层文件、存储栅氧层文件和金属连线层文件获取相应OPC数据，并按照预设方式统一存储至所述目标存储地址。优选的，所述存储地址为文件名称，所述文件存储有源区层、栅氧层和金属连线层对应的OPC数据，所述有源区层、栅氧层和金属连线层对应的OPC数据按照存储先后顺序依次排列。与现有技术相比，上述技术方案具有以下优点本文提供的OPC查询方法和系统，预先建立查询字段跟存储多条OPC数据的存储地址之间的关联，于是，能够一次性查询多条OPC数据，节省了用户输入查询指令的次数， 一方面减小用户工作量，另一方面降低出错概率，这两方面都能够提高工作效率，缩短了出光罩的时间周期。
通过附图所示，本发明的上述及其它目的、特征和优势将更加清晰。在全部附图中相同的附图标记指示相同的部分。并未刻意按实际尺寸等比例缩放绘制附图，重点在于示出本发明的主旨。图1为现有技术显示界面示意图；图2为本发明实施例提供的一种OPC数据的查询方法的流程图；图3为本发明实施例提供的另一种OPC数据的查询方法的流程图；图4为执行图3或图4所示流程后显示界面示意图；图5为本发明实施例提供的一种OPC数据的查询系统的一种结构示意图；图6为本发明实施例提供的一种OPC数据的查询系统的另一种结构示意图。
具体实施例方式下面首先对本文出现的一些英文缩写或技术术语做简单的解释MPff, Multi Project wafer,即多项目晶圆将多个具有相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片，流片后，每个设计品种可以得到数十片芯片样品；Tape out，可翻译为“出带”，即设计完成后，将最后的数据(⑶SII)送出去给 Foundry进行流片；⑶SII，Graphic Database System，图形数据库系统，用来描述掩模几何图形的事实标准，二进制格式，内容包括层和几何图形的基本组成；是一种时序提供格式，对分布于每一个制作层的电路单元进行全面描述，用于设计工具、计算机和掩膜制造商之间进行半导体物理制板的数据传输；OPE，Optical Proximity Effect，即光学近似效应由于投影曝光系统是一个部分相干光成像系统，理想像的强度频谱幅值沿各向有不同的分布，但由于衍射受限及成像系统的非线性滤波造成的严重能量损失，导致空间像发生圆化和收缩的效应。MASK SHOP，掩模板制造设备。为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式
做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明，但是本发明还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似推广，因此本发明不受下面公开的具体实施例的限制。其次，本发明结合示意图进行详细描述，在详述本发明实施例时，为便于说明，表示器件结构的剖面图会不以一般比例作局部放大，而且所述示意图只是示例，其在此不应限制本发明保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间尺寸。光刻技术是集成电路制造工艺发展的驱动力，也是其中最复杂的技术之一。相对于其他的单个制造技术而言，光刻对芯片性能的提高有着革命性的贡献。在光刻工艺出现之前，集成电路的结构会先通过特定的设备复制到一块较大(相对于生产用的硅片而言) 的名为掩膜的石英玻璃片上，然后通过光刻设备产生特定波长的光(如波长为248微米的紫外线)，将掩膜上集成电路的结构复制到生产芯片所用的硅片上。但是，由于OPE原因， 电路结构在从掩膜复制到硅片过程中，会产生失真，尤其是到了现在180微米及以下制造工艺阶段，如果这种失真的问题没有解决的话将导致整个制造技术的失败。在这种情况下， OPC应运而生，其基本思想为对集成电路设计的图案进行预先修改补偿，使得修改补偿的量正好能够补偿光系统造成的OPE效应，因此，是的经过OPC处理的图案做成的掩膜，通过光刻之后，在晶片上就能得到最初想要的电路结构。这种通过预先修改补偿，以减小在硅片上形成的电路结构的失真的方式能够较大程度提高芯片生产过程中的成品率，保证集成电路的正常功能，其对集成电路制造技术的革新提供了极强的推动力，成为现在半导体生产过程中必不可少的一个环节。在每一次MPW tape out时，需要将原数据进行OPC处理，并将处理得到的OPC数据传输给Mask shop进行掩膜版制作。一般的，需要确认原数据与OPC数据之间的对应性，即检查进行OPC处理前的数据和进行OPC处理后需要发送给Mask shop的数据之间是否是属于同一个文件数据，以防止纰漏。但是，现有技术是采用逐个文件比对的方式进行检查，这种方式工作效率低下，下面通过一具体例子说明例如一个logicO. 18um制程的MPW有35 个chip需要tape out，则需要统计的文件包括35个原文件及105个OPC文件(T01ayer、GT layer和Al layer各35个文件)，总共140个文件，也就是说，需要用户输入140次命令， 一方面给操作者带来较大工作量，另一方面由于每个文件的文件名均不同致使出错概率较尚ο基于此，本发明提出了一种解决方案，通过预先设定对应关系，将命令与存储地址建立关联，因此用户能够通过输入一条命令，获取对应该命令的存储地址下的所有OPC数据。下面通过几个实施例详细说明实施例一本实施例提供的一种OPC数据的查询方法预先将查询字段与某一存储地址(存储有多条OPC数据)建立关联，在接收到该查询字段时，即可获取所述存储地址上的所有OPC 数据并输出。具体过程如图2所示，包括以下步骤步骤S21、接收用户输入的查询指令，所述查询指令携带预设查询字段。步骤S22、参考预先设定的查询字段与存储地址之间的对应关系，将与所述预设查询字段相对应的存储地址确定为目标存储地址；步骤S23、获取所述目标存储地址上所有OPC数据；步骤S24、输出所述OPC数据。所述查询指令可以任意设置，只要能够保证其中携带的预设查询字段能够被识别即可。所述查询字段同样可以任意设置，从方便的角度考虑，该查询字段一般设置比较简单，各种简单字符都可以，例如“@”、“# ”、“￥”、“&”、“*”，或者不容易跟其他命令相混淆的其他字符，在此不一一赘述。与现有技术中将文件名称作为查询字段，逐个查询的方式不同。本发明实施例预先建立查询字段跟存储多条OPC数据的存储地址之间的关联，于是能够一次性查询多条 OPC数据，节省了用户输入查询指令的次数，例如logic0. 18um制程的MPW有35个chip需要tape out，则需要统计的文件包括35个原文件及105个OPC文件(TO layer、GT layer 和Al layer各35个文件)，总共140个文件，与现有技术需要用户输入140次命令不同的是，本实施例只需要输入1次指令即可，如此，一方面减小用户工作量，另一方面降低出错概率，这两方面都能够提高工作效率。
实施例二本实施例可以作为实施例一的具体实施过程，该过程预先建立一个新的文件(本实施例以该文件名为output为例进行说明)，output文件用于将经OPC处理后的各个芯片的各层数据(包括TO层OPC数据、GT层OPC数据以及An层OPC数据)按照预设方式存储。 当然，也可以同时还存储原文件数据，这时，可以按照原文件数据、TO层OPC数据、GT层OPC 数据以及An层OPC数据分区存储，并且预先建立“Output”与“*”的对应关系，作为参考信肩、ο然后进入如图3所示流程，包括以下步骤步骤S31、接收携带字段“*”的查询指令；步骤S32、查询参考信息，确定与“*”相对应的文件名称“Output” ；步骤S33、查询数据库定位Output文件，获取该Output文件中存储的所有OPC数据；步骤S34、将所述OPC数据按照预设顺序输出至显示界面。于是，用户即可通过输入一次命令，查询所有OPC数据，方便快捷。用户在对原数据(及原文件数据)和OPC数据进行比对统计时，所述原数据和OPC 数据可以位于不同界面，也可以处于同一界面，处于同一界面时，原数据可以位于显示界面上任意位置。从方便比对的角度考虑，在本实施例中，确定原数据和OPC数据处于特定位置，如图4所示，原数据41和OPC数据处于同一界面，并且在接收查询指令之前，预先将原数据41输出至显示界面顶部位置，在输出OPC数据时，TO层OPC数据42、GT层OPC数据43 以及An层OPC数据44按照先后顺序输出在显示界面上。或者，在接收到查询指令之后，先将原数据41输出至显示界面顶部位置，然后按照顺序将TO层OPC数据42、GT层OPC数据 43以及An层OPC数据44输出在显示界面上。需要说明的是，由于在进行各层OPC处理后，各层OPC数据有可能存储于不同的位置，例如形成存储有TO层OPC数据的文件(为方便描述，下文统一称为TO文件)，存储GT 层OPC数据的文件(为方便描述，下文统一称为GT文件)，或者，存储An层OPC数据的文件 (为方便描述，下文统一称为An文件)，因此，可以通过人工的方式将各层OPC数据都拷贝到所述Output文件中。另外，还可以通过建立TO文件、GT文件和An文件与output文件预设位置的关联，将所述TO文件、GT文件和An文件中的OPC数据导入所述output文件中各自对应位置。实施例三上述实施例中，output文件存储有原文件及所有层的OPC数据，在本实施例中，所述output文件可以是单独存储有TO层OPC数据、GT层OPC数据或An层OPC数据的文件， 存储不同层OPC数据的文件与不同的字符段相对应，如下表所示表权利要求
1.一种光学邻近效应矫正OPC数据的查询方法，其特征在于，包括接收用户输入的查询指令，所述查询指令携带本次查询字段；参考预先设定的查询字段与存储地址之间的对应关系，查询与本次查询字段对应的存储地址，将所述存储地址确定为目标存储地址；获取所述目标存储地址上所有OPC数据，并输出至显示界面。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在接收用户输入的查询指令之前，预先将原文件的数据输出至所述显示界面顶部。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述存储地址为文件名称，所述文件为 存储有源区层对应的OPC数据的有源区层文件或存储栅氧层对应的OPC数据的栅氧层文件或存储金属连线层对应的OPC数据的金属连线层文件。
4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述存储地址为文件名称，所述文件用于存储有源区层、栅氧层和金属连线层对应的OPC数据，所述有源区层、栅氧层和金属连线层对应的OPC数据按照预设方式排列。
5.根据权利要求3或4所述的方法，其特征在于，按照以下方式将目标存储地址中所有 OPC数据输出至显示界面按照与原文件各条数据在所述显示界面上的先后顺序，将所述目标存储地址中所有 OPC数据依次输出至所述显示界面。
6.一种光学邻近效应矫正OPC数据的查询系统，其特征在于，包括查询指令接收单元，用于接收用户输入的查询指令，该指令携带本次查询字段；目标确定单元，用于参考预先设定的查询字段与存储地址之间的对应关系，查询与本次查询字段对应的存储地址，确定为目标存储地址；数据获取单元，用于获取所述目标存储地址上所有OPC数据；输出单元，用于将数据获取单元获取的OPC数据输出至显示界面。
7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述显示界面用于预先显示原文件的数据。
8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述存储地址为文件名称，所述文件为 存储有源区层对应的OPC数据的有源区层文件或存储栅氧层对应的OPC数据的栅氧层文件或存储金属连线层对应的OPC数据的金属连线层文件。
9.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，还包括数据调度单元，用于从不同地址的分别存储对应层的OPC数据的有源区层文件、存储栅氧层文件和金属连线层文件获取相应OPC数据，并按照预设方式统一存储至所述目标存储地址。
10.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述存储地址为文件名称，所述文件存储有源区层、栅氧层和金属连线层对应的OPC数据，所述有源区层、栅氧层和金属连线层对应的OPC数据按照存储先后顺序依次排列。
全文摘要
本发明实施例公开了一种光学邻近效应矫正OPC数据的查询方法，包括接收用户输入的查询指令，该指令携带本次查询字段；参考预先设定的查询字段与存储地址之间的对应关系，查询与所述预设字段对应的存储地址，确定为目标存储地址；获取所述目标存储地址中所有OPC数据，并输出至显示界面。本实施例预先建立查询字段跟存储多条OPC数据的存储地址之间的关联，于是，能够一次性查询多条OPC数据，节省了用户输入查询指令的次数，一方面减小用户工作量，另一方面降低出错概率，这两方面都能够提高工作效率，缩短了出光罩的时间周期。
文档编号G06F17/30GK102541900SQ20101060367
公开日2012年7月4日 申请日期2010年12月24日 优先权日2010年12月24日
发明者张雷, 王谨恒, 陈洁, 黄旭鑫 申请人:无锡华润上华半导体有限公司, 无锡华润上华科技有限公司