处理掩膜设计输出要求的系统及方法技术资料下载

技术编号:6558101

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本发明涉及半导体制造,特别涉及用以处理掩膜设计输出要求的系统和方法。背景技术 依据传统的掩膜设计的输出方法,集成电路(IC)设计者提供装置设计数据给设计服务提供者。该设计服务提供者依据该装置设计数据产生掩膜制具数据。然后,该掩膜制具数据被传送给掩膜制造厂,并依据该掩膜制具数据产生掩膜。设计数据通常由不同的IC设计者通过不同的渠道,以不同的格式来提供。并且设计数据可能经由口头沟通、书面指示、传真或电子邮件附件等渠道提供。不同的IC设计者提供不同的说明作为设计...
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