技术编号：6656752
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术 本发明总体上涉及通过组合图元特征来模拟扫描束图像，所述图元特征诸如从表面模型中所提取的图元特征。诸如扫描电子显微镜(SEM)之类的扫描束成像工具、聚焦离子束(FIB)工具或光扫描器典型情况下用于产生微标度或纳标度表面的图像。作为例子，所述表面可以是硅半导体结构的表面或光刻法掩模的表面，所述光刻法掩模用于形成半导体结构的层。扫描束成像工具可以提供所述表面的二维(2-D)图像。尽管来自所述工具的2-D图像包含用于标识表面特征的亮度，然而人类很难根据图...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。