技术编号:6768060
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及抛光组合物、使用上述抛光组合物的减少基片的细微擦伤的方法、以及使用该抛光组合物制造基片的方法。该抛光组合物可以合适的用来抛光记忆硬盘基片成品和抛光半导体元件。背景技术 近年的记忆硬盘驱动器被要求具有高容量、小尺寸。为了提高记录密度,已强烈要求降低磁头的浮动高度以及减小单位记录面积。与此同时,就磁盘用基片的制造工序来说,抛光后对表面质量的要求也逐年变得严格。为了满足磁头的低浮动高度的要求,就要减小磁盘表面的表面粗糙度、微小的波纹、起伏(roll o...
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