技术编号：6769303
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是有关于一种超解析光盘母膜、光盘原膜及其工艺，且特别是有关于一种能够改善母膜(mother mold)表面粗糙以及母膜上光阻层预先曝光现象的超解析光盘母膜、光盘原膜及其工艺。图1为公知以激光直接聚焦于光阻层上的光盘母膜工艺示意图。请参照图1，公知光盘母膜的制作提供一基板100，于基板100上形成一光阻层102。接着再以激光束106透过物镜104聚焦于光阻层102上，以使得光阻层102中的记录区域108曝光。其中，所形成记录区域108的尺寸会受限于物理...
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