技术编号：6823918
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种清洗/干燥台及一种具有该种清洗/干燥台的半导体器件生产线。更具体地说，本发明涉及一种用在半导体器件生产线中的清洗/干燥系统，其中可以以高度的灵活性来选择两种不同的清洗处理(即，清洗操作)和两种不同的干燥处理(即，干燥操作)，以及一种其中具有这样一种清洗/干燥系统并对清洗装置和干燥装置的布局或排列进行了优化的半导体器件生产线。在制造半导体器件的过程中，在对晶片所进行的多种加工处理的每一项之前和之后均要进行用于湿洗晶片的清洗处理以及紧接者清洗处理...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。