技术编号:6828532
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般涉及一种光刻胶残渣去除剂,用于去除在半导体器件或液晶器件制备过程中的光刻胶残渣。更明确地,本发明涉及一种用于去除在下列过程中留下的光刻胶或其它残渣的光刻胶残渣去除剂,在所述过程中,在衬底上形成的导电金属或者绝缘薄膜上涂敷光刻胶,然后经过光辐射在其上形成一种光刻胶图案,这种光刻胶图案用作一种选择性腐蚀所述金属或绝缘薄膜或者注入离子形成电路的屏蔽,多余部分的光刻胶通过灰化去除。根据本发明,可以去除这样的残渣而对所述导体或绝缘薄膜没有任何腐蚀。为了去除...
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