一种降低铟柱焊点应力的焦平面器件的制作方法技术资料下载

技术编号:6834255

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本发明属于光电子集成,具体涉及一种能降低探测器阵列芯片与硅读出电路互连的铟柱焊点应力的红外焦平面器件。背景技术 红外焦平面(FPA)技术在军事,环境,民用,工业和医学等众多领域有着广泛的应用,尤其对非常大规模的FPA需求正在不断增长。然而,大规模红外FPA是由大规模的HgCdTe、量子阱等光敏元芯片与硅读出信号集成电路,通过各自生长的铟柱倒扣键合形成一个完整的焦平面器件,其键合质量直接影响器件的最终性能和可靠性。人们为了降低铟柱焊点承受的应力,提高封装可靠...
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