技术编号:6843624
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。背景技术本发明涉及氧化铈粉末,尤其涉及对光学和半导体表面进行精细加工和抛光的氧化铈粉末。已知要获得令人满意的光学表面,该表面必须无划痕,其Ra尽可能地小。Ra的测量值是指垂直于被抛光玻璃片平面的表面上最高点和最低点之间的平均距离。因此,在承认表面不会在亚微米级水平完全平整的情况下,Ra是最高点和最低点之间变化的量度。显然,该数值越低,光学透明性和无变形性就越好。抛光时,使磨料颗粒在液态介质(通常是水基的)中的浆液与待抛光表面接触,用一块垫子以预定方式在该表...
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