技术编号：6845394
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于制造硬掩模的方法和硬掩模结构。目前，用于制造小于100nm的形体尺寸的适合的光学光刻法的发展面临相当多的问题，涉及用于所使用的光致抗蚀剂材料的化学性、用在光学光刻法的环境中的掩模的制造、以及所使用的光刻工具的复杂性。已知技术目前是成本非常高的。小于100nm的形体尺寸(100nm以下的结构)的制造已经引起使用波长λ＝193nm的光的光刻法的发展，甚至对于所谓的“65nm”技术节点引起使用波长λ＝157nm的光的光刻法的发展。然而，使用波长λ＝...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。