技术编号:6866230
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻用冲洗液及使用其的抗蚀图案形成方法,所述光刻用冲洗液是,在对成像曝光的抗蚀剂进行显影处理后,通过与其接触,减少冲洗处理后的缺陷,防止水冲洗中的图案崩溃,另外,可以提高电子射线耐性,并有效抑制由于电子射线照射产生的图案收缩。背景技术 近年来,随半导体器件的小型化、集成化,该细微加工用光源也由已往的紫外线开始,由可以形成更高分辨率(解像性)的抗蚀图案的g线(436nm)短波长化为i线(365nm),由i线短波长化为KrF准分子激光(248nm),...
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