技术编号:6895392
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及包括由双图案化工艺形成的图案的半导体器件,并且更具体 地,涉及半导体器件以及控制其图案的方法,该半导体器件包括基于图案的临界尺寸(critical dimension, CD)控制器件特性的控制电路。技术背景半导体器件的集成度如此快速地增长,以致使用单曝光技术的曝光器件的分辨率跟不上设计规则的减小速度。为了克服单曝光技术的分辨率问题, 提出了双图案化技术。双图案化技术的示例包括通过使用例如双曝光技术的 连续光刻工艺形成图案的方法,分解电路并且通过...
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