技术编号:6942181
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于洗涤向基板表面进行了真空蒸镀后的金属制的掩膜构件的掩膜 构件的清洗装置及清洗方法,另外涉及通过用清洗了的掩膜构件向基板上进行真空蒸镀制 造的有机EL显示器。背景技术例如,当制造有机EL显示器时,在玻璃基板的表面上形成发光成R、G、B的发光元 件的图案,各色的发光元件由有机材料形成,其图案形成一般是由真空蒸镀法进行的。用于 此真空蒸镀的构件是掩膜构件。掩膜构件由镍钴合金等构成,并由数十Pm左右的厚度的 金属薄板构成。在掩膜构件上,作为掩膜图案,...
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