专利名称：掩膜构件的清洗装置及清洗方法以及有机el显示器的制作方法
技术领域：
本发明涉及用于洗涤向基板表面进行了真空蒸镀后的金属制的掩膜构件的掩膜 构件的清洗装置及清洗方法，另外涉及通过用清洗了的掩膜构件向基板上进行真空蒸镀制 造的有机EL显示器。
背景技术：
例如，当制造有机EL显示器时，在玻璃基板的表面上形成发光成R、G、B的发光元 件的图案，各色的发光元件由有机材料形成，其图案形成一般是由真空蒸镀法进行的。用于 此真空蒸镀的构件是掩膜构件。掩膜构件由镍钴合金等构成，并由数十Pm左右的厚度的 金属薄板构成。在掩膜构件上，作为掩膜图案，由多个微小透孔以微小间距间隔形成。当真 空蒸镀时，在真空容器内使掩膜构件成为与玻璃基板的表面相向配设的状态，通过从蒸发 源使蒸镀物质气化乃至升华，经掩膜构件使之附着在玻璃基板上，在玻璃基板的表面上形 成规定的薄膜发光元件的图案。在真空蒸镀时，蒸镀物质也附着在掩膜构件上，如果使用同一个掩 膜构件进行多 次蒸镀，则附着在掩膜构件的表面上的蒸镀物质成长而增加厚度。如果此蒸镀物质的厚度 变大，则由透孔形成的图案形状发生变化，产品的品质下降。因此，如果使用掩膜构件进行 规定次数的真空蒸镀，则要相应地清洗乃至洗涤此掩膜构件，去除附着在表面上特别是透 孔的周边上的蒸镀物质而进行再生。作为掩膜构件的洗涤方法，在专利文献1中公开的方法以往已被众所周知。在此 专利文献1中，在进行使掩膜和附着在其表面上的蒸镀物质之间的结合强度降低的前处理 之后，浸渍在有机溶剂中来去除蒸镀物质。在此，专利文献1的洗涤方法中的前处理，通过 向掩膜上照射激光束，由此激光束产生的等离子体进行膨胀同时产生冲击波，以此使掩膜 上的附着蒸镀物质与掩膜的结合弱化。[在先技术文献][专利文献][专利文献1]日本特开2006-192426号公报
发明内容
发明所要解决的课题在专利文献1中，通过照射激光束产生等离子体来进行的前处理，由5分钟左右的 浸渍就能够洗涤，与此相对，在不进行前处理的情况下，需要将掩膜在有机溶剂中浸渍约48 小时以上。而且，专利文献1中的洗涤分二阶段进行，在前阶段中是使用超纯水的洗涤或者 在超纯水洗涤时向掩膜上照射超声波，在后阶段中是使用有机溶剂的洗涤，具体地讲，是浸 渍在丙酮中。但是，在掩膜的洗涤中使用有机溶剂，或组合使用由超纯水或者照射了超声波的 超纯水进行的洗涤和由有机溶剂进行的洗涤，根据使用洗涤液的所谓湿式的洗涤，附着在掩膜上的蒸镀物质将全部溶出到洗涤液中。因此，洗涤液的污损乃至劣化变得激烈，存在洗 涤液的废液处理等对环境的负担变大的问题。本发明是鉴于以上的问题作出的，其目的在于当清洗进行了真空蒸镀后的掩膜构 件时，通过与使用溶剂、纯水等洗涤液的湿洗涤组合不使用洗涤液的干洗涤，将对清洗时的 掩膜构件及清洗装置的负荷抑制到最小限度。为了解决课题的手段为了达到上述的目的，本发明是一种掩膜构件的清洗装置，其对安装了掩膜构件 而向基板表面进行了蒸镀后的金属制的掩膜构件进行洗涤，去除附着在此掩膜构件上的蒸 镀物质，其特征在于，具备通过间歇地性且呈点状地加热上述掩膜构件与蒸镀物质的分界 面，并使此加热点移动，从此掩膜构件的表面去除其附着蒸镀物质的干洗涤台；在贮存了洗 涤液的洗涤液槽内对干洗涤后的上述掩膜构件进行湿洗涤的湿洗涤台。
湿洗涤使用溶剂、纯水等洗涤液进行，但如果长时间进行使掩膜构件与溶剂接触 的湿洗涤，则掩膜构件会受到损伤。因此，在干洗涤台中去除附着在掩膜构件的表面上的蒸 镀物质的大半。但是，仅由此干洗涤使掩膜构件完全清净化是困难的。在此，掩膜构件一般 由形成了具有由多个透孔形成的掩膜图案的掩膜区域的掩膜板、和安装在此掩膜板的掩膜 区域外的掩膜框构成，特别是从掩膜框和掩膜板的接合部及其附近完全去除蒸镀物质仅通 过干洗涤是极其困难的。因为以上的原因，在本发明中，使干洗涤和湿洗涤组合。即在洗涤工序中的前段进 行干洗涤，在后段进行湿洗涤。通过进行干洗涤，能够去除附着在掩膜板上的蒸镀物质的大 半。因此，能够将向在后段进行的湿洗涤的蒸镀物质的带入抑制到最小限度，能够将洗涤槽 的污损乃至劣化抑制到最小限度，另外能够缩短掩膜构件中的湿洗涤的洗涤时间。虽然通过进行干洗涤，接着进行湿洗涤，对掩膜构件进行清洗，但此掩膜构件的清 洗也可以在每一次的真空蒸镀时进行，通过一次真空蒸镀，在基板表面上形成的发光元件 是数十乃至数百nm左右的薄膜。因此，仅进行一次的薄膜形成，附着在掩膜构件上的蒸镀 物质是极其微量的。因此，即使反复多次例如10次前后进行真空蒸镀也能够维持基板上的 发光元件的图案形成精度。如果进行规定次数的真空蒸镀，则附着在掩膜构件上的蒸镀物 质堆积成膜状，掩膜图案的复制精度下降。在掩膜图案的复制精度下降前的阶段，要进行掩 膜构件的清洗。构成掩膜构件的掩膜板由金属板构成。另一方面，附着在此掩膜板上的蒸镀物质 是有机物质。因此，由于两者存在热膨胀率之差，所以干洗涤利用此热膨胀率差。即，如果 以微小点加热掩膜板的表面，即掩膜板中的与蒸镀物质的分界面，则起因于掩膜板和蒸镀 物质之间的热膨胀率之差，蒸镀物质被破碎，由于成为膜状的有机物质是脆性的物质，其强 度低，所以其碎片及薄片从掩膜板游离。因为呈点状地加热掩膜构件的掩膜板，所以能够使 用激光照射机构。此激光照射机构设定成对掩膜板间歇地照射激光光线，即设定成照射脉 冲状的激光光线。而且，使从此激光照射机构照射的间歇的激光光线的点沿掩膜板的表面 移动，因此，例如，使用由聚光用透镜和电流镜及其驱动机构构成的扫描光学系统。通过对 掩膜板仅进行点加热，不会使蒸镀物质完全游离，即使从掩膜板游离，游离的附着蒸镀物质 的碎片及薄片有时也再附着到掩膜板上。因此，做成具备回收从加热点游离的附着蒸镀物 质的碎片及薄片的回收机构的结构。
由从激光照射机构照射的激光光线加热掩膜板的表面，但希望此激光光线不被附 着在掩膜构件上的蒸镀物质吸收地透过，对此蒸镀物质不产生特别的作用。因此，例如在附 着在掩膜板上的蒸镀物质是有机材料的情况下，作为激光照射机构，能够使用波长532 1064nm的脉冲激光。掩膜构件也可以配置成水平状态，但希望配置成铅直状态，扫描光学系统相对于 此掩膜构件在水平方向和垂直方向使加热点扫描。而且，回收机构可以由相对于掩膜构件 的加热点作用负压吸引力的负压吸引机构构成。如果这样使负压吸引力作用在掩膜构件 上，则由于能够有效地回收在此掩膜构件的附近浮游的蒸镀物质的碎片及薄片，所以部分 地附着在掩膜构件上的状态的蒸镀物质也能够从掩膜构件剥离。负压吸引机构，做成如下的结构具有以达到掩膜构件的宽度方向的全长的方式 作用负压吸引力的长尺寸嘴，在此长尺寸嘴上连接驱动机构，由此驱动机构使长尺寸嘴追 随由扫描光学系统产生的来自激光照射机构的加热点的移动而在垂直方向移动。另外，如 果夹持掩膜构件地设置使正压对与长尺寸嘴的配设侧相反的侧面作用的加压机构，则能够 完全地防止蒸镀物质的碎片及薄片绕回到掩膜板的背面侧。而且，由负压吸引机构回收的 蒸镀物质，由于像湿洗涤的那样没有与有机溶剂接触，所以可能再使用。设置在上述的干洗涤台的后段的湿洗涤台，做成具有一个或者多个洗涤液槽的结 构。洗涤液槽可以作为贮存用于使残留在掩膜构件上的蒸镀物质溶出的有机溶剂的溶剂洗 涤槽。另外，也可以作为进行超声波洗涤的超声波洗涤槽。而且，洗涤槽可以由一个或者多 个槽构成，在各槽中可以进行相同的处理，也可以进行不同的处理。除了溶剂洗涤槽以外， 还设置使用纯水的进行淋洗的洗涤槽。由于通过湿洗涤台的前段中的干洗涤台，大半的附 着蒸镀物质被去除了，所以各槽的污损能够被抑制到最小限度。特别是，如果溶剂洗涤槽中 的溶剂的污损、劣化被抑制，则能够降低溶剂的消费量，这也是从废液处理等观点出发所希 望的。在此，掩膜构件因为通常在洁净室内处理，所以附着异物、产生有机污物的可能性 小，但为了在进行真空蒸镀的台和洗涤台之间的掩膜构件的输入及输出，因为掩膜构件与 移载机构接触等的关系，所以存在掩膜构件被污损的可能性，特别是存在与移载机构等直 接接触的掩膜框被污损的可能性。因此，希望湿洗涤不仅从掩膜构件的整体去除蒸镀物质， 而且还发挥去除其他异物、有机污物等的功能。因此，作为洗涤液，可以使用纯水、醇类、各 种溶剂。通过以上的叙述，掩膜构件被清净化，但在进行了湿洗涤之后，还要使掩膜构件干 燥。此掩膜构件的干燥，可以采用加热干燥，而如果进行真空加热干燥，则干燥效率变高。而且，本发明是一种掩膜构件的清洗方法，其对安装了掩膜构件而向基板表面上 进行了蒸镀后的金属制的掩膜构件进行洗涤，去除附着在此掩膜构件上的蒸镀物质，其特 征在于，包含如下工序干洗涤工序，所述干洗涤工序间歇地且呈点状地加热上述掩膜构件 与蒸镀物质的分界面，通过使此加热点移动，从此掩膜构件的表面去除其附着蒸镀物质；湿 洗涤工序，所述湿洗涤工序使经过了上述干洗涤工序的掩膜构件在洗涤液槽内与洗涤液接 触而进行湿洗涤。另外希望包含在上述湿洗涤之后，对上述掩膜构件进行加热干燥的干燥 工序。
发明的效果通过向基板上进行真空蒸镀形成了薄膜图案，因此，当对附着堆积了蒸镀物质的 掩膜构进行清洗时，通过在进行使用溶剂、纯水等洗涤液的湿洗涤前的阶段进行不使用洗 涤液的干洗涤而去除大半的蒸镀物质，能够将清洗时对掩膜构件的损伤、劣化抑制到最小 限度，能够谋求其长寿命化，同时能够将因湿洗涤而产生的废液抑制到最小限度。
图1是本发明中成为清洗对象的掩膜构件的俯视图。图2是表示安装掩膜构件而向基板表面上进行真空蒸镀的状态的主要部分的放 大剖视图。图3是表示本发明的一实施方式的掩膜构件的清洗装置的整体结构图。图4是表示掩膜构件的干洗涤台的结构的分解立体图。图5是表示进行干洗涤的状态的作用说明图。图6是掩膜构件的湿洗涤台的结构说明图。图7是掩膜构件的干燥台的结构说明图。符号说明1:掩膜构件 2:掩膜板 3:掩膜框 4:掩膜区域 4a:微小透孔 5 玻璃基 板 10:输入台 11:干洗涤台12:溶剂洗涤部 13:淋洗部 14:湿洗涤台16:输出 台20 支柱21 升降构件 22 激光振荡器23 扫描光学系统24 长尺寸嘴25 加压区域30:循环用配管31:泵33:供给嘴34 超声波加振器40 干燥室
具体实施例方式以下，基于
本发明的一实施方式。首先，在图1中，1是掩膜构件，掩膜构 件1由掩膜板2和由设置在此掩膜板2的周围的框体构成的掩膜框3构成。在掩膜板2上， 具有以规定的间距间隔排列多个微小透孔4a的掩膜区域4。掩膜构件1，如图2所示，是用于在透明的玻璃基板5的表面形成规定的图案的构 件，例如，在构成有机EL显示器的情况下，用于形成发光成R、G、B的发光元件的图案，这些 各色的发光元件由有机材料形成，其图案形成通过真空蒸镀法进行。因此，接合了掩膜构件 1的玻璃基板5，在真空蒸镀容器的内部，通过与加热了的蒸发源相向配设，使来自蒸发源 的蒸镀物质气化乃至升华，在玻璃基板5的表面形成蒸镀膜6，为了向此玻璃基板5上形成 成膜图案使用掩膜构件1。掩膜构件1，其掩膜板2安装在玻璃基板5上，掩膜框3也配置在真空蒸镀容器内。 因此，如果进行真空蒸镀，则不仅是掩膜板2，而且是在包含掩膜框3在内的掩膜构件1整体 上都膜状地附着由蒸镀物质构成的蒸镀膜6。此蒸镀物质的附着，在每次重复蒸镀时都进行 堆积，但如果蒸镀物质堆积到某种程度，则使由微小透孔4a形成的图案形状发生变化，图 案的复制精度下降。因此，必须在由此微小透孔4a形成的图案形状变化前进行清洗，以便 去除附着在掩膜构件1的表面上的蒸镀物质膜7。在此，蒸镀物质的附着，包含掩膜板2中 的微小透孔4a的壁面在内，是在真空蒸镀时与蒸发源相向的表面Ia侧，在掩膜框3上也附 着蒸镀物质膜7。但是，在掩膜构件1的背面侧Ib实质上没有附着蒸镀物质。
图3表示掩膜构件1的清洗装置的整体结构。图中，10是输入台，11是干洗涤台， 12是溶剂洗涤部，13是淋洗部，由这些溶剂洗涤部12及淋洗部13构成二连式的湿洗涤台 14。另外，15是干燥台、16是输出台。在输入台10中。掩膜构件1从真空蒸镀装置输入到 清洗装置，此掩膜构件1的输入在收纳在壳体17内的状态下进行。另外，在输出台16也安 装同样的壳体18，清洗完了的掩膜构件1收纳在此壳体18内，送入到真空蒸镀装置中。输入到输入台10的掩膜构件1，从壳体17中取出，转移到干洗涤台11。在此，掩膜 构件1的移载等操作，省略了图示，但使用夹紧掩膜框3进行输送的抓取与放置机构(Pick and Place机构，即P&P机构)，P&P机构从上方而取出掩膜构件1后移载到下一台。在这 些各台中，分别在上部位置形成输入、输出用开口 19，掩膜构件1从前一台的输入、输出用 开口 19向上方拉出，插入到下一台中的输入、输出用开口 19。图4分解表示干洗涤台11的概略结构。在该图中，20、20是支柱，在支柱20、20之 间设置升降构件21，升降构件21由侧部导轨21a、21a和底座21b构成，掩膜构件1中的掩 膜框3的左右两侧部可以穿插在两侧部导轨21a上，掩膜构件1 一直落入到与底座21b接 触为止。升降构件21的侧部导轨21a与支柱20的导轨槽20a卡合，沿此导轨槽20a进行 上下移动。因此，掩膜构件1被支承成铅直状态。
在干洗涤台11的内部，为了点状地急速加热支承在升降构件21上的掩膜构件1， 作为激光照射机构设置了射出激光光线的脉冲的激光振荡器22。来自此激光振荡器22的 脉冲状的激光光线的光路由扫描光学系统23折曲，照射在掩膜构件1上。在此，扫描光学 系统23，例如可以由聚光透镜和电流镜(galvano mirror)及其驱动用动作执行器构成。因 为掩膜构件1安装成铅直状态，所以扫描光学系统23能够使激光脉冲的照射位置在X轴方 向(水平方向)及Y轴方向(垂直方向)移动。因此，能够使从激光振荡器22射出的激光 脉冲在相对于掩膜构件1在水平方向移动的同时在垂直方向移动，对掩膜构件1的整个面 照射激光光线。激光光线的扫描是对掩膜构件1的表面Ia进行的，掩膜板2的表面的附着物被破 碎后从掩膜板2游离出来，但具备了回收这样游离的附着蒸镀物质的碎片及薄片的回收机 构。此回收机构具有作为负压吸收机构的长尺寸嘴24，该长尺寸嘴24以使负压吸引力达到 掩膜构件1的宽度方向的全长的方式发挥作用。长尺寸嘴24是具有达到保持在升降构件 21上的掩膜构件1的宽度方向的全长的长度的具有狭缝状的嘴口的吸嘴。如图5所表明的那样，因为激光振荡器22向与掩膜构件1的掩膜板2正交的方向 照射脉冲状的激光光线，所以长尺寸嘴24没有与从激光振荡器22照射的激光光线的光路 干涉，而且嘴口 24a相对于扫描线向具有角度θ的方向开口。因此，图5中向用箭头所示 的方向作用负压吸引力。另外，在干洗涤台11中的掩膜构件1的干洗涤时，将与掩膜板2 中的附着了蒸镀物质的表面Ia相反侧的背面Ib面对的空间作为加压区域25。因此，通过 向此加压区域25进行弱的送风保持正压状态。因此，干洗涤台11用于剥离并回收附着在掩膜构件1之中的掩膜板2的表面上的 蒸镀物质，而且，仅由干洗涤完全去除蒸镀物质是困难的。特别是去除附着在掩膜框4上的 蒸镀物质更困难。而且，由于由Ρ&Ρ机构处理掩膜构件1，所以也存在附着异物、有机污物 等某种污染物的可能性。因为以上的原因，为了使掩膜构件1更完全地清净化，在干洗涤台 11的后段设置了湿洗涤台14。
在此，湿洗涤台14，如图6所示，做成了溶剂洗涤部12和淋洗部13的2台结构。 这些溶剂洗涤部12和淋洗部13，分别设置了洗涤槽12a、13a，成为循环使用洗涤槽12a、13a 内的洗涤液的结构。因此，在洗涤槽12a、13a的底面上连接了循环用配管30，在此循环用配 管30的中途，连接上吸用的泵31和流量计32。另外，在循环用配管30的前端安装了向洗 涤槽12a、13a供给洗涤液的供给嘴33。在此，在洗涤槽12a中，对于来自供给嘴33的洗涤 液的供给状态没有特别限制，但在洗涤槽13a中，因为对掩膜构件1进行淋洗的关系，其供 给嘴33以相对于设置在槽内的掩膜构件1从倾斜方向喷射洗涤液的方式构成。因此，洗涤 槽12a的供给嘴和洗涤槽13a的供给嘴不必做成相同的结构。作为溶剂洗涤部12的洗涤槽12a的洗涤液使用有机溶剂，去除蒸镀物质是主要目 的，并也能够去除蒸镀物质以外的污物。在此，洗涤液使用的有机溶剂的种类，作为醇系列 的洗涤液，例如可以使用IPA(异丙醇)、HFE(Hydro Fluoro Ether，氟醚)。另外，分类成极 性溶剂的不具有质子性的氢的双极性非质子性溶剂，例如N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基 乙酰胺、二甲基亚砜(DMSO)、N-甲基-2-吡咯烷酮、六甲基膦酰胺等高分子系列的洗涤溶剂 也适用。另一方面，在淋洗部13中使用的洗涤液是纯水。湿洗涤台表示了由分别是单槽方式的溶剂洗涤部12和淋洗部13构成的结构，但也可以将任何一方或者双方做成多槽方式，使用的洗涤液也可以使用多种。而且，也可以在溶剂 洗涤部12的洗涤槽12a中设置超声波加振器34，对洗涤液进行超声波加振。但是，做成不进 行超声波加振的结构也可以。另一方面，也可以代替淋洗部13。采用由浸渍等其他方式进行 的洗涤。在此浸渍方式的情况下，由多个槽构成，使掩膜构件1顺序浸渍在浸渍槽内。由湿洗涤台进行了湿洗涤的掩膜构件1，转移到干燥台15，使掩膜构件1的整体干 燥。因此，如图7所示，在干燥台15中设置了干燥室40。干燥室40可以由遮板51密闭，向 此干燥室40内供给来自热风供给源42的热风，另外连接真空泵43，能够使干燥室40内成 为真空状态。由此，在干燥台15中，使掩膜构件1进行热风、真空干燥。掩膜构件1的清洗装置是以上那样构成的，下面对以去除附着在掩膜构件1的表 面上蒸镀物质的方式进行清洗的方法进行说明。掩膜构件1是向玻璃基板5进行规定次数 的真空蒸镀后进行清洗的掩膜构件，蒸镀物质附着的仅是单侧的面即表面la，在背面Ib侧 实质上没有附着蒸镀物质。收容在壳体17内的掩膜构件1，由P&P机构在输入台10中从壳体17取出而供给 至干洗涤台11。在此，干洗涤台11由激光光线加热掩膜构件1，使此掩膜构件1的表面Ia 侧朝向激光振荡器22地安装在升降构件21上。在干洗涤台11中，设置了激光振荡器22及扫描光学系统23，扫描光学系统23使 从激光振荡器22照射的脉冲状的激光光线在水平方向移动，同时也可以在垂直方向移动。 因此，驱动升降构件21来进行位置调整，以便成为与从激光振荡器22经扫描光学系统23 对掩膜构件1照射激光光线的照射始点位置对面的位置。在此，由于能够由扫描光学系统 23使来自激光振荡器22的激光光线在水平方向移动，所以由扫描光学系统23使来自激光 振荡器22的激光光线的点成为水平方向的始点，而且预先配置在成为垂直方向的最上部 的位置。这就是原点位置。另外，通过对升降构件21进行升降驱动，使对掩膜构件1的干 洗涤开始位置与原点位置一致。在此，掩膜构件1预先做成了在掩膜板2的周围安装掩膜框3的结构，此掩膜框3向配设了激光振荡器22的一侧突出。因此，照射激光光线进行的干洗涤是对掩膜构件1之 中的掩膜板2进行的，在本实施方式中，对掩膜框3不照射激光光线。即，掩膜框3的内侧 的任一个拐角部都成为干洗涤开始位置。由此，来自激光振荡器22的激光光线对附着在掩膜构件1的表面上的蒸镀材料没 有发挥加热等特别的作用地透过而照射在掩膜板2的表面上。其结果，由激光光线的热将 掩膜板2的表面加热。但是，附着在此掩膜板2上的蒸镀材料没有被直接加热。在此，通过 缩小来自激光振荡器22的激光光线，在掩膜板2的表面上形成微小的加热点。
掩膜板2是金属制的掩膜板，附着在掩膜板2上的蒸镀物质是由有机材料构成的， 两者的热膨胀率有大的差别。另外，激光光线透过蒸镀物质，此蒸镀物质几乎不被加热，但 掩膜板2被加热，依靠掩膜板2和其表面的蒸镀物质之间的热膨胀率差，附着在掩膜板2的 表面上的蒸镀物质，因为其性质是脆性，强度低，所以被破碎，或者呈粉状地碎片化，或者薄 片化，而且从掩膜板2的表面游离地浮游，或者部分地游离。而且，激光光线成为脉冲状的 光线，通过由扫描光学系统23每次以微小的距离在水平方向移动，能够进行水平方向的扫 描。因此，各脉冲的激光光线的照射时间必须成为相对于掩膜板2而言蒸镀物质被有效地 破碎的程度。由于长尺寸嘴24的负压吸引力作用在由从激光振荡器22照射的激光光线产生的 加热点，所以浮游的碎片、薄片由此负压吸引力吸引，被长尺寸嘴24回收。而且，部分游离 的碎片、薄片等也在负压吸引力的作用下从掩膜板2剥离，被长尺寸嘴24回收。由此，掩膜 板2被进行干洗涤。因为蒸镀物质被碎片化或薄片化，所以如果从在掩膜区域4上形成的 微小透孔4a绕回到掩膜板2的背面侧，就不能由长尺寸嘴24回收。但是，由于掩膜构件1 的背面Ib侧成为加压区域25，所以经微小透孔4a产生来自背面Ib侧的空气流，因此蒸镀 物质没有绕回到背面Ib侧。由于掩膜板2由薄板构成，并形成了多个微小透孔4a，所以如果使强力的负压吸 引力作用在此掩膜板2上，则存在掩膜板2损伤或者变形的可能性。因为长尺寸嘴24的嘴 口 24a相对于掩膜板2向具有角度θ的方向开口，所以作用在掩膜板2自身上的负压吸引 力与角度θ的大小相应地降低。因此，将能够从掩膜板2完全或者部分地吸引游离的碎片、 薄片作为条件，通过适当地设定长尺寸嘴24的压力及嘴口 24a的角度θ，能够不对掩膜板 2带来损伤。由扫描光学系统23间歇地照射的激光光线的点，在水平方向每次以微小距离移 动来扫描，而且如果水平方向的一条线部分的扫描结束，则在高度方向改变位置对下一条 线进行扫描，加热点遍及掩膜板2的整个面地移动，通过追随此移动使长尺寸嘴24在上下 方向移动，能够从掩膜板2去除蒸镀物质。另外，在掩膜板2的尺寸大时，由扫描光学系统 23以一次动作对掩膜板2的整个面进行干洗涤变得困难。在此情况下，可以将掩膜板2分 割成多个部位，对每个区域进行干洗涤。因此，激光振荡器22及扫描光学系统23需要设置 在可动工作台上。在此，在由激光光线的照射进行干洗涤时，仅是加热蒸镀物质，在此蒸镀物质中没 有混入特别不纯物。因此，通过由过滤器收集由长尺寸嘴24回收的蒸镀物质而使其块状 化，能够作为进行真空蒸镀的蒸镀材料再利用。通过上述那样地进行干洗涤，将从掩膜构件1中的掩膜板2的大致整个面去除蒸镀物质。但是，掩膜构件1的整体并不是完全被清洗了。即，在掩膜框3的表面上未被照射 激光光线，另外，掩膜板2中的与掩膜框3的分界部分等的蒸镀物质仅通过干洗涤不能被去 除等，在掩膜构件1上将残存一些蒸镀物质。在干洗涤台11的后段设置了由溶剂洗涤部12及淋洗部13构成的湿洗涤台14。 因此，在此湿洗涤台14中，蒸镀物质从包含掩膜构件1的掩膜框3及掩膜框3和掩膜板2 的分界部在内的全体被去除。另外，蒸镀物质以外的污物等附着物质也能够去除。在此，在 溶剂洗涤部12中，如果使用分类成极性溶剂的不含质子性的氢的双极性非质子性溶剂，则 因为与蒸镀物质进行反应，洗涤速度提高，所以能够进行迅速的洗涤。在溶剂洗涤部12中，在洗涤槽12a内设置了超声波加振器34，但从防止掩膜构件 1的损伤、变形等观点出发，希望此超声波加振器34以向掩膜框3作用超声波的方式构成， 并使超声波不达到掩膜板2的掩膜区域4。另外，在淋洗部13中，从掩膜构件1去除了包 含溶剂在内的不纯物等而使掩膜构件1的整体清净化。这样，进行淋洗是为了将掩膜构件 1放置在洗涤液的流动之中。在浸渍方式中，在将掩膜构件1从洗涤液取出时，存在污损物 再附着的危险，但通过将掩膜构件1放置在流动之中，能够防止污损物的再附着。
在构成湿洗涤台14的溶剂洗涤部12及淋洗部13的洗涤槽12a、13a中贮存了由 有机溶剂及纯水构成的洗涤液，但由于在此湿洗涤之前，由干洗涤已将蒸镀物质从掩膜板2 的表面上大体去除了，所以洗涤槽12a、13a的洗涤液的污损的程度变小，能够飞跃性地增 加循环使用洗涤液时的反复次数，能够显著地降低废液处理的负担。在湿洗涤了掩膜构件1之后，转移到干燥台15，在此干燥台15中，对掩膜构件1进 行热风、真空干燥。进而，经过此干燥台15，由此掩膜构件1的清洗结束，此清洗后的掩膜构 件1在输出台16中，收容在壳体18内，能够用于由真空蒸镀装置进行真空蒸镀。
权利要求
一种掩膜构件的清洗装置，其对安装了掩膜构件而向基板表面进行了蒸镀后的金属制的掩膜构件进行洗涤，去除附着在此掩膜构件上的蒸镀物质，其特征在于，具备通过间歇地且呈点状地加热上述掩膜构件与蒸镀物质的分界面，并使此加热点移动，从此掩膜构件的表面去除其附着蒸镀物质的干洗涤台；在贮存了洗涤液的洗涤液槽内对干洗涤后的上述掩膜构件进行湿洗涤的湿洗涤台。
2.如权利要求1记载的掩膜构件的清洗装置，其特征在于，上述掩膜构件由形成了具 有掩膜图案的掩膜区域的掩膜板和安装在此掩膜板的掩膜区域外的掩膜框构成，在上述干 洗涤台中对上述掩膜区域进行干洗涤，在上述湿洗涤台中，使包含上述掩膜板和上述掩膜 框的接合部在内的整体浸渍在上述洗涤液槽内的洗涤液中。
3.如权利要求1或权利要求2记载的掩膜构件的清洗装置，其特征在于，上述干洗涤台 具备点加热上述掩膜构件的掩膜板的表面的激光照射机构；使从此激光照射机构照射的 激光沿上述掩膜板的表面扫描的扫描光学系统；回收从加热点游离的附着蒸镀物质的碎片 及薄片的回收机构。
4.如权利要求1至权利要求3的任一项记载的掩膜构件的清洗装置，其特征在于，上述 掩膜构件配置成铅直状态，上述扫描光学系统是相对于此掩膜构件在水平方向和垂直方向 扫描加热点的系统；上述回收机构是使负压吸引力作用在上述掩膜构件的上述加热点上的 负压吸引机构，此负压吸引机构是具有使负压吸引力以达到上述掩膜构件的宽度方向的全 长的方式作用的长尺寸嘴的机构，而且此长尺寸嘴做成了追随上述加热点的移动而在垂直 方向移动的结构。
5.如权利要求4记载的掩膜构件的清洗装置，其特征在于，上述长尺寸嘴做成了其嘴 口相对于上述掩膜构件从斜下方作用负压吸引力的结构。
6.如权利要求4或权利要求5记载的掩膜构件的清洗装置，其特征在于，所述掩膜构件 的清洗装置做成了夹持上述掩膜构件而使正压作用在与上述长尺寸嘴的配设侧相反侧的 面上的结构。
7.如权利要求1至权利要求6记载的掩膜构件的清洗装置，其特征在于，上述湿洗涤台 做成了具有使上述掩膜构件与洗涤液接触的一个或者多个洗涤液槽的结构。
8.如权利要求7记载的掩膜构件的清洗装置，其特征在于，作为上述湿洗涤台，由一个 或多个溶剂洗涤槽和一个或多个淋洗槽构成。
9.如权利要求1记载的掩膜构件的清洗装置，其特征在于，在上述湿洗涤台中使用的 洗涤液，是醇系列洗涤液、分类成极性溶剂的不具有质子性的氢的双极性非质子性溶剂、纯 水的至少任何一种。
10.一种掩膜构件的清洗方法，其对安装了掩膜构件而向基板表面上进行了蒸镀后的 金属制的掩膜构件进行洗涤，去除附着在此掩膜构件上的蒸镀物质，其特征在于，包含如下 工序干洗涤工序，所述干洗涤工序间歇地且呈点状地加热上述掩膜构件与蒸镀物质的分界 面，通过使此加热点移动，从此掩膜构件的表面去除其附着蒸镀物质；湿洗涤工序，所述湿洗涤工序使经过了上述干洗涤工序的掩膜构件在洗涤液槽内与洗 涤液接触而进行湿洗涤。
11.一种掩膜构件的清洗方法，其对安装了掩膜构件而向基板表面上进行了蒸镀后的金属制的掩膜构件进行洗涤，去除附着在此掩膜构件上的蒸镀物质，其特征在于，包含如下工序干洗涤工序，所述干洗涤工序间歇地且呈点状地加热上述掩膜构件与蒸镀物质的分界 面，通过使此加热点移动，从此掩膜构件的表面去除其附着蒸镀物质；湿洗涤工序，所述湿洗涤工序使经过了上述干洗涤工序的掩膜构件在洗涤液槽内与洗 涤液接触而进行湿洗涤；干燥工序，所述干燥工序在上述湿洗涤之后，对上述掩膜构件进行加热干燥。
12. —种有机EL显示器，所述有机EL显示器通过使用由上述权利要求1的掩膜构件的 清洗装置或者权利要求10或权利要求11的掩膜构件的清洗方法清洗的掩膜构件，向基板 上蒸镀有机物质制造。
全文摘要
掩膜构件的清洗装置及清洗方法以及有机EL显示器，当清洗进行了真空蒸镀后的掩膜构件时，将对清洗时的掩膜构件及清洗装置的负荷抑制到最小限度。将掩膜构件(1)在干洗涤台(11)中保持成铅直状态，使激光光线的脉冲从激光振荡器(22)经扫描光学系统(23)呈点状地照射在掩膜板(2)的表面上，使掩膜板(2)表面的蒸镀物质因掩膜板(2)和蒸镀物质之间的热膨胀率之差而破碎，依靠由长尺寸嘴(24)产生的负压吸引力的作用去除其碎片及薄片，接着在湿洗涤台(14)中，在溶剂洗涤部(12)中进行超声波洗涤，在淋洗部(13)中用溶剂清洗包含掩膜框(3)在内的掩膜构件(1)的整体。
文档编号H01L51/56GK101834118SQ201010129808
公开日2010年9月15日 申请日期2010年3月8日 优先权日2009年3月9日
发明者井崎良, 弓场贤治, 片桐贤司, 韭泽信广 申请人:株式会社日立高新技术