技术编号：6944563
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对半导体晶片等被处理基板实施等离子体处理等处理的基板处理装 置、以及在该基板处理装置中所使用的基板载置台和暴露于等离子体的部件。背景技术现阶段，例如在半导体器件的制造工艺中，对作为被处理体的半导体晶片进行热 氧化处理、热氮化处理、等离子体氧化处理、等离子体氮化处理、CVD等的膜形成处理或者蚀 亥Ij、灰化等各种基板处理。在这样的基板处理中，半导体晶片等被处理基板在放置于基板处理装置的处理容 器内所设置的基板载置台上的状态下，以所希望的基板温度进行...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。