技术编号：6961159
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及处理作为被处理体的基板的基板处理装置及在其中设置的真空进片 (Loadlock)装置。背景技术例如，在液晶显示器(IXD)所代表的平板显示器(EPD)的制造工序中，使用具备在减压环境下对玻璃基板等基板实施蚀刻、CVD等规定处理的多个腔室的、所谓的多腔室型的基板处理装置(参照专利文献1)。在这种基板处理装置中包括具备搬送基板的基板搬送机构的搬送室，设置于搬送室周围的多个腔室。而且，在该基板处理装置中设置有真空进片装置，其在置于大气中的盒和保持为真空...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。