技术编号:6967885
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种半导体工艺设备,尤其涉及一种用于硅片单面刻蚀设备硅片 自动升降、旋转工作装置。背景技术在硅片进行湿法刻蚀的期间,为了节约药液和降低药液排放的污染,目的在于硅 片在正常运输传递时,使硅片的X、Y方向有一个正交旋转达到硅片的另两边缘刻蚀工艺需 求。即当硅片经过了第一个刻蚀药液槽之后,将硅片进行旋转一定的角度,再让其经过第二 个刻蚀药液槽将硅片另外两边缘进行刻蚀,使之达到硅片边缘刻蚀的工艺需求。现有设备 中的传动机构,机构包括平行排布的转轴体和...
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