技术编号：6979214
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。抛光腐蚀架本实用新型涉及半导体制造领域，特别是涉及一种硅片抛光装置。背景技术在半导体制造领域内，各种半导体器件的制造需要用到硅片。硅片在使用前一般要进行抛光处理。目前常用的方法是直接将硅片装在聚四氟乙烯花篮里，然后将装有硅片的聚四氟乙烯花篮放在酸槽里面腐蚀。由于该腐蚀方法所采用的花篮卡片槽与硅片的接触面积较大，所以会引起在腐蚀时硅片与花篮接触的地方不能被腐蚀到或者腐蚀速度比其它未接触的地方慢很多，这样就会造成硅片边缘部分的腐蚀质量不好。实用新型内容本实用新...
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