专利名称：抛光腐蚀架的制作方法
技术领域：
抛光腐蚀架
技术领域：
本实用新型涉及半导体制造领域，特别是涉及一种硅片抛光装置。背景技术：
在半导体制造领域内，各种半导体器件的制造需要用到硅片。硅片在使用前一般要进行抛光处理。目前常用的方法是直接将硅片装在聚四氟乙烯花篮里，然后将装有硅片的聚四氟乙烯花篮放在酸槽里面腐蚀。由于该腐蚀方法所采用的花篮卡片槽与硅片的接触面积较大，所以会引起在腐蚀时硅片与花篮接触的地方不能被腐蚀到或者腐蚀速度比其它未接触的地方慢很多，这样就会造成硅片边缘部分的腐蚀质量不好。
实用新型内容本实用新型主要解决的技术问题是提供一种能够将硅片边缘也腐蚀到位的抛光腐蚀装置。为解决上述技术问题，本实用新型提供一种抛光腐蚀架，包括底板、盖板以及多个连接所述底板和盖板的夹片杆，所述夹片杆包括设于中部的多个支撑部，同一夹片杆两相邻支撑部之间形成截面为V形的V形槽，每一个所述夹片杆上的一个支撑部共同用于对硅片形成支撑。在优选的实施例中，所述底板与所述盖板上各设有多个通孔及一 U形槽，所述多个夹片杆包括至少三个第一夹片杆及一第二夹片杆，所述多个夹片杆的两端具有固定部， 每个所述第一夹片杆的固定部通过所述通孔固定于所述底板与所述盖板上，所述第二夹片杆的固定部通过所述U形槽固定于所述底板与所述盖板上。在优选的实施例中，所述多个夹片杆的固定部设有螺纹，所述设有螺纹的夹片杆可与螺母配合固定于所述底板与所述盖板上。在优选的实施例中，所述第二夹片杆的至少一固定部设有卡勾，所述设有卡勾的第二夹片杆可卡合于所述底板或者所述盖板的U形槽内。在优选的实施例中，所述第一夹片杆与所述V形槽的槽底的宽度为0. 8 1. 2mm。在优选的实施例中，所述第一夹片杆与所述V形槽的槽底与槽边的夹角γ为 50° 70°。在优选的实施例中，所述硅片抛光腐蚀架还具有至少一手柄，所述手柄固定于所述盖板上。本实用新型的抛光腐蚀架通过第一夹片杆与第二夹片杆上的V形槽来限位硅片， 使硅片的正面与背面与腐蚀架基本上无接触。因此所述抛光腐蚀架能够到达将硅片边缘腐蚀到位的效果。
图1为一实施例中抛光腐蚀架的正视3[0013]图2为图1所示抛光腐蚀架的右视图；图3为一实施例中抛光腐蚀架的底板示意图；图4为一实施例中抛光腐蚀架的盖板示意图；图5为一实施例中抛光腐蚀架的第一夹片杆示意图；图6为一实施例中抛光腐蚀架的第二夹片杆示意图；图7为图6所示第二夹片杆的局部放大图。附图中各部件的标记如下抛光腐蚀架100，底板110，盖板120，第一夹片杆130， 第二夹片杆140，手柄150，螺母160，支撑部170，硅片180，底板通孔111，底板U形槽112， 盖板通孔121，盖板U形槽122，安装孔123，第一固定部131，第二固定部132，第三固定部 141，第四固定部142，V形槽171。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述，以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。请参考图1与图2，为便于理解，对部分结构进行了透视处理。本实用新型提供一种用于硅片抛光腐蚀的抛光腐蚀架100。所述抛光腐蚀架100包括一底板110，一盖板 120，多个第一夹片杆130，及一第二夹片杆140。其中，夹片杆130、140包括设于中部的多个支撑部170，同一夹片杆130、140的两相邻支撑部170之间形成截面为V形的V形槽171。 第一夹片杆130与第二夹片杆140固定于底板110与盖板120上，多个第一夹片杆130与第二夹片杆140形成一个架子，硅片180容置于第一夹片杆130与第二夹片杆140所形成的架子内，并承靠在夹片杆130、140的支撑部170上。请参考图3 6，底板110具有三个底板通孔111及一底板U形槽112。盖板120 具有三个盖板通孔121及一盖板U形槽122。第一夹片杆130两端分别具有第一固定部131 与第二固定部132，第二夹片杆两端分别具有第三固定部141与第四固定部142。底板110 在底板通孔111、盖板120在盖板通孔121处设有内螺纹。第一夹片杆130的第一固定部 131与第二固定部132，及第二夹片杆第三固定部141均设有外螺纹。请参图1，该外螺纹穿过底板110与盖板120的底板通孔111与盖板通孔121，并与螺母160相配合将第一夹片杆130及第二夹片杆140与底板110及盖板120相固定。第二夹片杆140的第四固定部 142为卡勾，卡勾可与盖板U形槽122相卡扣。此处第一夹片杆130的第一固定部131与第二固定部132，及第二夹片杆第三固定部141与底板110及盖板120的固定方式为螺母160 与螺纹相配合的方式，其固定方式也可以是其他合适的固定方式，例如，将第一固定部131、 第二固定部132及第三固定部141端部做出卡槽，底板110与盖板120上设计可旋转的卡勾，当第一固定部131、第二固定部132及第三固定部141通过底板110与盖板120的底板通孔111与盖板通孔121时，将卡勾旋入卡槽进行固定。本实用新型不限定夹片杆130、140 与底板110及盖板120的固定方式。请参考图7，第一夹片杆130与第二夹片杆140的V形槽171槽底W的宽度为0. 8 1.2mm，槽底与槽边L的夹角γ为50° 70°。由于硅片180的厚度约为0. 5mm，当硅片 180放置于V形槽171内时，硅片180的边缘与槽边的接触很少，这样硅片的边缘就能够被腐蚀到。第一夹片杆130与第二夹片杆140可以采用耐腐蚀的聚乙烯塑料材质，来增加抛光腐蚀架的寿命。本实用新型的V形槽171槽底W的宽度根据硅片180的厚度来设计，当硅片180的厚度变化时，本实用新型的槽底W的宽度也跟着做相应的变化。在本实用新型一实施例中，抛光腐蚀架100还包括至少一手柄150，抛光腐蚀架 100的盖板120上具有至少一安装孔123。手柄150可以通过盖板120上的安装孔123固定于盖板120上，当将抛光腐蚀架100放入酸槽里面时，可以握持着手柄150对抛光腐蚀架 100进行操作。下面将介绍一下抛光腐蚀架100的装配及使用过程。首先，将三个第一夹片杆130 通过螺纹与螺母160的配合装在底板110上；然后，在第一夹片杆130的另一端套上盖板 120，用螺母160将盖板120与三个第一夹片杆130相固定；然后，将第二夹片杆140通过底板110的底板U形槽112和盖板120的盖板U形槽122套在底板110与盖板120上；最后在底板110的第二夹片杆140的第三固定部141上装上螺母160，抛光腐蚀架就组装完成了。使用的时候，在装硅片180时只需将第二夹片杆140拆下，装上硅片180后再将第二夹片杆140装上，然后将装有硅片180的抛光腐蚀架放入酸槽里面，手拿着手柄就可以对硅片180进行腐蚀，腐蚀完成后再按相反的顺序就可以取出硅片180，然后装入未腐蚀的硅片 180继续作业。所以在使用过程中，只需要拆下与装上第二夹片杆140就可以了，使用起来十分方便。本实用新型的抛光腐蚀架由第一夹片杆、第二夹片杆、底板及盖板组成，夹片杆上做出与硅片厚度相适应的由支撑部形成的V形槽来容置硅片。当抛光腐蚀架放置于酸槽中时，硅片边缘也能与酸槽内的溶液很好的接触，这样硅片的边缘就可以得到较好的腐蚀，从而提高了硅片腐蚀的质量。以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细， 但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
权利要求1.一种抛光腐蚀架，其特征在于，包括底板、盖板以及多个连接所述底板和盖板的夹片杆，所述夹片杆包括设于中部的多个支撑部，同一夹片杆两相邻支撑部之间形成截面为V 形的V形槽，每一个所述夹片杆上的一个支撑部共同用于对硅片形成支撑。
2.根据权利要求1所述的硅片抛光腐蚀架，其特征在于，所述底板与所述盖板上各设有多个通孔及一 U形槽，所述多个夹片杆包括至少三个第一夹片杆及一第二夹片杆，所述多个夹片杆的两端具有固定部，每个所述第一夹片杆的固定部通过所述通孔固定于所述底板与所述盖板上，所述第二夹片杆的固定部通过所述U形槽固定于所述底板与所述盖板上。
3.根据权利要求2所述的硅片抛光腐蚀架，其特征在于，所述多个夹片杆的固定部设有螺纹，所述设有螺纹的夹片杆可与螺母配合固定于所述底板与所述盖板上。
4.根据权利要求2所述的硅片抛光腐蚀架，其特征在于，所述第二夹片杆的至少一固定部设有卡勾，所述设有卡勾的第二夹片杆可卡合于所述底板或者所述盖板的U形槽内。
5.根据权利要求1所述的硅片抛光腐蚀架，其特征在于，所述V形槽的槽底的宽度为 0. 8 1. 2mm。
6.根据权利要求1所述的硅片抛光腐蚀架，其特征在于，所述V形槽的槽底与槽边的夹角Y为50° 70°。
7.根据权利要求1所述的硅片抛光腐蚀架，其特征在于，所述硅片抛光腐蚀架还具有至少一手柄，所述手柄固定于所述盖板上。
专利摘要一种抛光腐蚀架包括底板、盖板以及多个连接所述底板和盖板的夹片杆，所述夹片杆包括设于中部的多个支撑部，同一夹片杆两相邻支撑部之间形成截面为V形的V形槽，每一个所述夹片杆上的一个支撑部共同用于对硅片形成支撑。当抛光腐蚀架放置于酸槽中时，硅片边缘也能与酸槽内的溶液很好的接触，这样硅片的边缘就可以得到较好的腐蚀，硅片的腐蚀质量得到提高。
文档编号H01L21/67GK202259216SQ201120387288
公开日2012年5月30日 申请日期2011年10月12日 优先权日2011年10月12日
发明者王友旺, 裴新 申请人:深圳深爱半导体股份有限公司