技术编号：6989601
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施例一般地涉及用于处理衬底的设备。 背景技术在半导体、平面面板、光伏、纳米制造(nanomanufacturing)、有机发光二极管 (OLED)以及其它硅或薄膜处理系统中，需要在使用一段时间后清洁系统的构件。例如，构件可包括处理腔室、排放导管，或在使用期间可能沉积处理气体或处理材料的任何构件。可使用例如含氟气体和/或由含氟气体(例如NF3或氟(F2))所产生的等离子体来清洁系统构件(例如，处理腔室和排放导管)。等离子体的反应性氟物种可包括单原子...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。