技术编号：7006265
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在基板上涂敷抗蚀剂，进行显影的涂敷显影装置、涂敷显影方法和存储介质。背景技术在作为半导体制造工序的一个的光敏蚀刻工序中，半导体晶片(以下，称为晶片) 的表面涂敷抗蚀剂，在规定图案曝光该抗蚀剂之后，进行显影，形成抗蚀剂图案。形成上述抗蚀剂图案用的涂敷显影装置中，设置具备在晶片上进行各种处理用的处理模块的处理块。处理块，例如专利文献1所记载，通过相互层叠形成抗蚀剂膜等的各种涂敷膜的单位块和进行显影处理的单位块构成。各单位块上设置晶片的搬送机构，通过该...
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