技术编号：7038263
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种太阳能电池制造用碱性蚀刻液，其包含(A)通式[1]表示的单磺酸或二磺酸或它们的盐、(B)碱性化合物和(C)水；另外涉及一种太阳能电池制造用硅系基板的制造方法，其特征在于，使用该蚀刻液对以硅为主要成分的晶片进行蚀刻，在该晶片的表面形成凹凸结构。{式中，p个R1各自独立地表示氢原子、羟基或碳原子数为1～10的烷基，q个M各自独立地表示氢原子、碱金属原子、铵(NH4)基或四烷基铵(R24N)基(式中，R2表示碳原子数为1～4的烷基)，n表示0或1，...
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