技术编号：7039649
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了，其中铜铟铝硒薄膜的组成式为CuIn1-xAlxSe2，0≤x≤1，包括步骤(1)依次使用丙酮、乙醇和去离子水对玻璃衬底进行超声清洗，清洗后置于去离子水中保存；(2)使用磁控溅射方法依次在玻璃衬底上沉积铜铟合金层、铝层、铜层，得到层状的金属薄膜前驱体；(3)将层状的金属薄膜前驱体和硒粉置于石墨盒中，进行后硒化处理，得到能带可调的铜铟铝硒薄膜。本发明通过控制溅射铜铟合金靶和铝靶的时间固定，而改变溅射铜靶的时间，从而获得不同组分比的铜铟铝硒薄膜，实...
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