技术编号:7044403
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种制造光吸收层的典型方法和制造包括所述光吸收层的半导体设备的方法。所述典型方法包括通过在基底上涂敷半导体纳米颗粒溶液形成纳米颗粒薄膜;热处理所述纳米颗粒薄膜至少一次以使纳米颗粒之间发生粘附;及通过在所述纳米颗粒薄膜上涂敷光吸收溶液形成光吸收层。专利说明[0001]相关串请的交叉引用[0002]本申请要求于2013.7.1向韩国知识产权局提交的指定序列号为10-2013-0076427的韩国专利申请为《美国法典》第35卷第119(a)节所规定的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。