技术编号：7049861
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及纳米自旋阀阵列的制备方法，有效解决刻蚀中温度高，使用范围窄，设备昂贵，局限性大，刻蚀速度慢，成本高及不能规模生产的问题，包括如下步骤选取多孔阳极氧化铝模板，将多孔阳极氧化铝模板进行预处理，选用不同的电镀槽，电化学沉积纳米自旋阀的各层，本发明制备具有多层结构的微小的自旋阀，每个小自旋阀横向尺寸仅数十纳米，按规则的六角密排顺序排列，面密度高达1011/cm2，是横向尺寸在纳米量级的自旋阀阵列，在常温下进行，避免了因高温而引起的层间金属的扩散，不会影响...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。