技术编号:7050238
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种多晶铁电薄膜基铁电阻变存储器,在下电极层、多晶铁电薄膜层之间和/或多晶铁电薄膜层、上电极层之间含缺陷调控层;所述缺陷调控层材料的相对介电常数不低于5,且不高于铁电材料相对介电常数,厚度为1~20nm,且缺陷调控层与多晶铁电薄膜层厚度比为0.001~0.2;所述缺陷调控层材料的能带带隙大于3eV,与多晶铁电薄膜的晶格失配小于0.1。通过在下电极层、多晶铁电薄膜层之间和/或多晶铁电薄膜层、上电极层之间植入缺陷调控层,降低了存储单元中的缺陷及其控制...
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