技术编号:7052531
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明实施例提供阵列基板及其制作方法、显示装置,涉及显示,减少低温多晶硅AMOLED阵列基板制作过程中的掩膜曝光工艺的次数。在制备上述阵列基板的过程中,可以通过一次构图工艺在衬底基板上形成包括栅极、栅极绝缘层、多晶硅有源层;再通过一次构图工艺形成位于钝化层表面的第一过孔和第二过孔的图案;又通过一次构图工艺形成源极、漏极以及像素电极;其中,源极、漏极分别通过第一过孔和第二过孔与多晶硅有源层电连接。最后,通过一次构图工艺形成像素界定层。专利说明阵列基板及其制作...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。