分离栅功率器件的栅极结构及工艺方法技术资料下载

技术编号:7065902

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本发明公开了一种分离栅功率器件的栅极结构,在硅衬底上具有沟槽,沟槽侧壁及底部附着有一层氧化层,沟槽内下部具有分离栅极,分离栅极上部同样覆盖有一层氧化硅,与沟槽侧壁及底部的氧化硅层一起将分离栅极形成包围,沟槽上部为栅极,硅衬底表面为绝缘层,金属引线通过穿通绝缘层的接触孔将栅极引出。所述的栅极为U型结构的多晶硅薄栅,其内部填充满金属钨,接触孔与填充的金属钨连接,将栅极引出。本发明还公开了所述分离栅功率器件的栅极结构的工艺方法。专利说明 [0001] 本发...
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