技术编号：7066169
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了，通过在设计版图时，将通孔图形与多条相邻的金属图形的重叠区相交叉连接，且通孔图形的尺寸大于目标通孔的尺寸，使得后续在光刻胶中形成的通孔图案大于目标通孔图形尺寸，从而扩大了光刻的工艺窗口，提高了光刻分辨率和光刻精度；并且，以硬掩膜层为掩膜，将硬掩膜层中的上层金属图案刻蚀到刻蚀阻挡层和上介质层中，从而形成目标通孔图案；目标通孔的尺寸由硬掩膜层中的上金属图案的尺寸和通孔尺寸共同来决定，而不是由光刻胶中的通孔图形的尺寸来决定，因此，无需对通孔图形进行拆...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。