技术编号：7091941
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体致冷件生产的一种装置，名称是一种晶粒清洁装置，它包括架子，在架子上放置有一个斜面的滑板，滑板上面设置有上有第一软质层，在滑板上面有一个搓板，搓板的下面是第二软质层，第二软质层和第一软质层表面相对，搓板连接有驱动装置，驱动装置可以使搓板沿着第一软质层上面来回滑动，所述的滑板上面有流水装置，所述的架子上有辖着搓板来回运行的限位槽，所述的搓板上具有辖在这个限位槽上的限位件，这样的晶粒清洁装置具有节省水源、容易操作、效果好的优点。专利说明一种晶...
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