一种晶粒清洁装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及半导体致冷件生产【技术领域】的一种装置，名称是一种晶粒清洁装置，它包括架子，在架子上放置有一个斜面的滑板，滑板上面设置有上有第一软质层，在滑板上面有一个搓板，搓板的下面是第二软质层，第二软质层和第一软质层表面相对，搓板连接有驱动装置，驱动装置可以使搓板沿着第一软质层上面来回滑动，所述的滑板上面有流水装置，所述的架子上有辖着搓板来回运行的限位槽，所述的搓板上具有辖在这个限位槽上的限位件，这样的晶粒清洁装置具有节省水源、容易操作、效果好的优点。
【专利说明】一种晶粒清洁装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体致冷件生产【技术领域】的一种装置，特别是涉及晶粒清洁装置。
【背景技术】
[0002]半导体致冷件包括瓷板和晶粒，晶粒是经过晶棒切割而成的，成型的晶粒表面有许多灰尘，有的杂物粘接得比较牢固，为了保证产品的质量，需要将这些杂物清除干净，现有技术中用的是冲洗的方法，这样的方法具有劳动强度大、还具有不易清洗干净的缺点。
【发明内容】
[0003]本实用新型的目的就是针对上述缺点，提供一种劳动强度小、容易操作、效果好的晶粒清洁装置。
[0004]本实用新型的技术方案是这样实现的:一种晶粒清洁装置，其特征是:它包括架子，在架子上放置有一个斜面的滑板，滑板上面设置有第一软质层，在滑板上面有一个搓板，搓板的下面是第二软质层，第二软质层和第一软质层表面相对，搓板连接有驱动装置，驱动装置可以使搓板沿着第一软质层上面来回滑动，所述的滑板上面有流水装置。
[0005]进一步地讲，所述的架子上有辖着搓板来回运行的限位槽，所述的搓板上具有辖在这个限位槽上的限位件。
[0006]本实用新型的有益效果是:这样的晶粒清洁装置具有节省水源、容易操作、效果好的优点。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]图1是本实用新型的结构示意图。
[0008]其中:1、架子 2、滑板3、第一软质层 4、搓板 5、第二软质层 6、驱动装置 7、流水装置8、限位槽。
【具体实施方式】
[0009]下面结合附图对本实用新型作进一步说明。
[0010]如图1所示，一种晶粒清洁装置，其特征是:它包括架子1，在架子上放置有一个斜面的滑板2，滑板上面设置有上有第一软质层3，在滑板上面有一个搓板4，搓板的下面是第二软质层5，第二软质层5和第一软质层3表面相对，搓板连接有驱动装置6，驱动装置可以使搓板沿着第一软质层上面来回滑动，所述的滑板上面有流水装置7。
[0011]这样，可以将晶粒放置在第一软质层和第二软质层之间，可以对晶粒搓洗干净，具有本实用新型的优点。
[0012]进一步地讲，所述的架子上有辖着搓板来回运行的限位槽8，所述的搓板上具有辖在这个限位槽上的限位件。
[0013]这样由于设置限位槽，使搓板向下的压力更大，保证搓洗得更干净。
[0014]以上所述仅为本实用新型的具体实施例，但本实用新型的结构特征并不限于此，任何本领域的技术人员在本实用新型的领域内，所作的变化或修饰皆涵盖在本实用新型的专利范围内。
【权利要求】
1.一种晶粒清洁装置，其特征是:它包括架子，在架子上放置有一个斜面的滑板，滑板上面设置有上有第一软质层，在滑板上面有一个搓板，搓板的下面是第二软质层，第二软质层和第一软质层表面相对，搓板连接有驱动装置，驱动装置可以使搓板沿着第一软质层上面来回滑动，所述的滑板上面有流水装置。
2.根据权利要求1所述的晶粒清洁装置，其特征是:所述的架子上有辖着搓板来回运行的限位槽，所述的搓板上具有辖在这个限位槽上的限位件。
【文档编号】H01L21/67GK204118044SQ201420592588
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2014年10月15日 优先权日:2014年10月15日
【发明者】陈磊, 刘栓红, 赵丽萍, 钱俊有, 张文涛, 蔡水占, 郭晶晶, 张会超, 陈永平 申请人:河南鸿昌电子有限公司