技术编号:7100849
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种存储器装置的制造方法,特别涉及一种存储器装置的侧壁间隔物的制造方法。背景技术半导体产业中存在用于提高集成电路装置(例如微处理器及存储器装置等)运行速度的永恒推动力。由于消费者对于电脑及电子装置运算速度的需求越来越大,进而加速了上述推动力。此运算速度的需求导致集成电路装置(例如、晶体管及字线等)的各种特征的尺寸逐渐缩小。例如,在其他情况均相同的情况下,晶体管的沟道长度越小,晶体管就能运行的越快。因此利用缩小存储器装置的尺寸或比例,进而提高存储器...
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